Американский стартап Substrate бросает вызов ASML в литографии

Компания ASML, основоположник литографических машин, известна лишь узкому кругу специалистов в области полупроводников. Однако американский стартап Substrate собирается изменить это положение. Он нацелен на разработку литографического оборудования, аналогичного системам ASML, но с использованием коротковолнового рентгеновского излучения, созданного при помощи ускорителей частиц, вместо традиционного экстремального ультрафиолетового излучения. Стартап уже привлек 100 миллионов долларов инвестиций от таких фондов, как Founders Fund, и оценен в 1 миллиард долларов. Substrate утверждает, что его инновационная технология позволит значительно снизить затраты на литографию по сравнению с устройствами ASML EUV. Использование рентгеновского излучения с меньшей длиной волны, чем у EUV, обещает улучшение качества печати и надежности. Некоторые эксперты уже охарактеризовали разработки компании как впечатляющее достижение.