RedactorЯпонская компания Canon в прошлом году передала Intel установку для освоения технологии нанопечати, предназначенной для создания прогрессивных чипов. Эта технология, как утверждается, способна существенно уменьшить затраты на оборудование для производства 5-нм полупроводников и значительно сократить потребление электроэнергии.
Недавно компания DNP предложила новый материал для изготовления 1,4-нм чипов с использованием данной технологии. Как сообщает Nikkei Asian Review, DNP разработала специальные матрицы для нанесения рисунков на кремниевые пластины, что является ключевым этапом в создании чипов. Массовое производство этих материалов намечено на 2027 год, что может привести к снижению затрат на электроэнергию на 90% по сравнению с традиционными методами литографии.
Несмотря на интерес таких гигантов, как Samsung, TSMC и Micron, их предприятия в основном ориентированы на классическую фотолитографию, что затрудняет переход на новые технологии. Canon и Nikon ранее доминировали на рынке литографического оборудования, но сегодня лидерство принадлежит ASML, контролирующей 90% рынка.
